极紫外光刻技术专利_极紫外光刻技术专利

*** 次数：1999998 已用完，请联系开发者***

中航电测:间隙光刻机构及其光刻方法专利使用紫外光源,应用于电阻...金融界5月17日消息,有投资者在互动平台向中航电测提问:请问公司专利“一种间隙光刻机构及其光刻方法"使用的是哪种光源?能否用在芯片制造工艺上?麻烦回复一下,不要故意不回复呢!公司回答表示:公司此项发明专利使用的是紫外光源,应用于公司核心产品电阻应变计的生产。本文源...

ˋ△ˊ

三星申请极紫外光刻装置专利,能有效操作极紫外光刻装置金融界2023年12月5日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社申请一项名为“极紫外光刻装置和操作极紫外光刻装置的方法“,公开号CN117170189A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,提供了一种极紫外(EUV)光刻装置和操作EUV光刻装置的方法。所述操作极紫外(EUV)光...

＼　＿　／

台积电申请EUV光刻掩模薄膜专利,提高极紫外光掩模的制造效率金融界2023年12月6日消息,据国家知识产权局公告,台湾积体电路制造股份有限公司申请一项名为“用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法“,公开号CN117170179A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,本公开涉及用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法。在一种制造用于极紫外(EU...

泰晶科技申请三维图案化石英微器件加工方法专利,实现高精度表面...专利摘要显示,本发明提供一种三维图案化石英微器件的加工方法,其通过将具有可变倾角、可调整光刻掩膜位置的和可与光刻机分离的基座应用于侧面紫外曝光技术中,使得侧面紫外曝光技术具有曝光倾角可控可调、曝光精度高、实现成本低、可靠性高等优势,实现了对石英振梁的侧面...