极紫外光刻胶材料_极紫外光刻胶材料

*** 次数：1999998 已用完，请联系开发者***

三星申请极紫外光刻装置专利,能有效操作极紫外光刻装置金融界2023年12月5日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社申请一项名为“极紫外光刻装置和操作极紫外光刻装置的方法“,公开号CN117170189A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,提供了一种极紫外(EUV)光刻装置和操作EUV光刻装置的方法。所述操作极紫外(EUV)光...

英特尔开始采用极紫外光刻技术大规模量产Intel 4制程节点作者:E科讯 近日,英特尔宣布已开始采用极紫外光刻(EUV)技术大规模量产(HVM)Intel 4制程节点。Intel 4大规模量产的如期实现,再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划,并将其应用于新一代的领先产品,满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。作为英...

第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel 4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel 4工艺首发用于代号Meteor Lake的酷睿Ultra处理器,将在12月14日正式发布,面向主流和轻薄笔记本。关...

阿斯麦确认向英特尔交付首台高数值孔径极紫外光刻系统荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦12月21日在社交媒体平台X发文确认,向英特尔交付首台高数值孔径极紫外光刻系统。每台设备的造价超3亿美元,可满足一线芯片制造商的需求,未来十年内能够制造更小、更好的芯片。本文源自金融界AI电报

˙ω˙ 七彩化学:公司紫外正型光刻胶中间体已经实现销售【七彩化学:公司紫外正型光刻胶中间体已经实现销售】财联社3月20日电,七彩化学在互动平台表示,公司紫外正型光刻胶中间体已经实现销售;聚氨酯弹性体项目预计今年6月份完成建设。公司钙钛矿太阳能电池正在搭建中试生产线建设。

(#｀′)凸

台积电申请EUV光刻掩模薄膜专利,提高极紫外光掩模的制造效率金融界2023年12月6日消息,据国家知识产权局公告,台湾积体电路制造股份有限公司申请一项名为“用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法“,公开号CN117170179A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,本公开涉及用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法。在一种制造用于极紫外(EU...

半导体行业新挑战:光刻胶价格上涨 10%-20%IT之家 12 月 14 日消息,根据韩媒 The Elec 报道,日本住友化学子公司东友精密化学(Dongwoo Fine-Chem)通知韩国半导体公司,表示由于原材料和劳动力费用不断上涨,KrF 和 L 系列光刻胶供货价格将上涨 10-20%。IT之家注:光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、...

集邦咨询:2023 年半导体光刻胶市场收入下降 6-9%,明年有望复苏光刻胶需求也有望反弹。光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶是光刻工艺中的关键材料,主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。光刻胶品种众多,本次提价涉及的 KrF 光...

∪▽∪ 三星申请极紫外光形成抗蚀图案专利,能有效形成抗蚀图案三星电子株式会社申请一项名为“使用极紫外光形成抗蚀图案的方法及使用该抗蚀图案作为掩模形成图案的方法“,公开号CN117518728A,申请日期为2023年7月。专利摘要显示,公开了一种用于形成抗蚀图案的方法。根据该方法,通过使用无机光刻胶在衬底上形成感光层。用深紫外(D...

ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单IT之家 2 月 13 日消息,荷兰半导体制造设备巨头 ASML 前天刚刚展示了其下一代高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机,还透露其 High-NA... 现有 EUV 光刻机也可以实现同样的分辨率和晶体管密度,但它们需要采用更昂贵的材料和更复杂的双 / 多重曝光技术,而采用 High-NA EUV 技术...