极紫外光刻机euv_极紫外光刻机euv

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阿斯麦新型EUV遭大客户婉拒?台积电(TSM.US)表示这款光刻机太贵阿斯麦最新型的先进芯片制造光刻机器的价格令人望而却步。台积电高级副总裁Kevin Zhang周二在阿姆斯特丹的一个技术研讨会上表示:“这台EUV光刻机成本非常高。”他指的是阿斯麦最新推出的“high-NA”级别极紫外(EUV)光刻机。我喜欢high-NA EUV的性能,但我确实不喜欢它的...

第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel 4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel 4工艺首发用于代号Meteor Lake的酷睿Ultra处理器,将在12月14日正式发布,面向主流和轻薄笔记本。关...

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日媒称佳能光刻机业务东山再起 挑战阿斯麦霸主地位【CNMO科技消息】5月17日,CNMO了解到,据日媒报道,佳能公司在半导体光刻机业务上已展现出复苏的强劲势头。尽管过去在与荷兰阿斯麦和尼康的竞争中,佳能未能成功生产出ArF浸没式光刻机和EUV(极紫外)光刻机,但近期他们通过推出纳米压印光刻装置(nanoimprint lithography),成...

台积电申请EUV光刻掩模薄膜专利,提高极紫外光掩模的制造效率金融界2023年12月6日消息,据国家知识产权局公告,台湾积体电路制造股份有限公司申请一项名为“用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法“,公开号CN117170179A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,本公开涉及用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法。在一种制造用于极紫外(EU...

●△● 英特尔开始采用极紫外光刻技术大规模量产Intel 4制程节点作者:E科讯 近日,英特尔宣布已开始采用极紫外光刻(EUV)技术大规模量产(HVM)Intel 4制程节点。Intel 4大规模量产的如期实现,再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划,并将其应用于新一代的领先产品,满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。作为英...

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三星申请极紫外光刻装置专利,能有效操作极紫外光刻装置金融界2023年12月5日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社申请一项名为“极紫外光刻装置和操作极紫外光刻装置的方法“,公开号CN117170189A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,提供了一种极紫外(EUV)光刻装置和操作EUV光刻装置的方法。所述操作极紫外(EUV)光...

阿斯麦High-NA EUV光刻机取得突破 成功印刷10纳米线宽图案荷兰阿斯麦公司宣布,其首台采用0.55数值孔径 投影光学系统的高数值孔径 极紫外 光刻机已经成功印刷出首批图案,这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。本文源自金融界AI电报

能造EUV光刻机的欧洲:第一次有了自己的EUV生产线!EUV极紫外光刻机虽然出自欧洲的荷兰,但是欧洲一直没有自己的EUV生产线,直到现在。当地时间9月29日,位于爱尔兰莱克斯利普(Lexilip)附近的Intel Fab 34晶圆厂,正式开始使用EVU光刻工艺大规模量产生产Intel 4工艺的Meteor Lake处理器,也就是酷睿Ultra。Intel CEO帕特·基辛格、技...

阿斯麦High-NA EUV光刻机取得重大突破IT之家 4 月 18 日消息,荷兰阿斯麦 (ASML) 公司宣布,其首台采用 0.55 数值孔径 (NA) 投影光学系统的高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机已经成功印刷出首批图案,这标志着 ASML 公司以及整个高数值孔径 EUV 光刻技术领域的一项重大里程碑。ASML 公司在声明中表示:“我们...

阿斯麦EUV光刻机进入“high-NA”时代!助力英特尔(INTC.US)代工雄心智通财经APP获悉,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML.US)表示,该公司已经开始将其第一台最新芯片制造机器的最核心部件运往美国芯片制造商英特尔(INTC.US)旗下的芯片工厂。据媒体报道称,不愿透露姓名的知情人士透露,这种被称为high-NA 极紫外(EUV)光刻机(high-NA extreme ultraviol...

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