极紫外光刻技术的新专利_极紫外光刻技术的新专利

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＋▂＋ 英特尔开始采用极紫外光刻技术大规模量产Intel 4制程节点技术大规模量产(HVM)Intel 4制程节点。Intel 4大规模量产的如期实现,再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划,并将其应用于新一代的领先产品,满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。作为英特尔首个采用极紫外光刻技术生产的制程节点,Intel 4与先...

第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel 4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel 4工艺首发用于代号Meteor Lake的酷睿Ultra处理器,将在12月14日正式发布,面向主流和轻薄笔记本。关...

三星申请极紫外光刻装置专利,能有效操作极紫外光刻装置金融界2023年12月5日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社申请一项名为“极紫外光刻装置和操作极紫外光刻装置的方法“,公开号CN117170189A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,提供了一种极紫外(EUV)光刻装置和操作EUV光刻装置的方法。所述操作极紫外(EUV)光...

阿斯麦确认向英特尔交付首台高数值孔径极紫外光刻系统荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦12月21日在社交媒体平台X发文确认,向英特尔交付首台高数值孔径极紫外光刻系统。每台设备的造价超3亿美元,可满足一线芯片制造商的需求,未来十年内能够制造更小、更好的芯片。本文源自金融界AI电报

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美媒放风:阿斯麦能远程瘫痪台积电荷兰光刻机制造商阿斯麦向荷兰官员保证,可以远程强制关闭台湾地区芯片生产企业台积电的光刻机,包括最先进的极紫外光刻机。据报道,台积电是阿斯麦的重要客户,世界上最先进的芯片大部分产自台湾地区。报道称,拜登政府还希望促进美国本土的半导体生产,承诺向芯片制造商拨款3...

日媒称佳能光刻机业务东山再起 挑战阿斯麦霸主地位佳能未能成功生产出ArF浸没式光刻机和EUV(极紫外)光刻机,但近期他们通过推出纳米压印光刻装置(nanoimprint lithography),成功夺回了在尖端封装用途市场的主导地位。这一技术突破使佳能再次站在了微细化技术的前沿。为了与产品线全面的阿斯麦展开竞争,佳能正积极研发一度放弃...

台积电申请EUV光刻掩模薄膜专利,提高极紫外光掩模的制造效率金融界2023年12月6日消息,据国家知识产权局公告,台湾积体电路制造股份有限公司申请一项名为“用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法“,公开号CN117170179A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,本公开涉及用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法。在一种制造用于极紫外(EU...

波长光电:公司产品在半导体光刻、封测等领域有应用,尚不掌握终端...金融界5月13日消息,有投资者在互动平台向波长光电提问:你好董秘,公司是否有EUV极紫外光源系统产品或相关技术储备。公司回答表示:公司产品在半导体及泛半导体行业的应用主要包括半导体光刻、封测、PCB面板、显示等领域,比较有代表性的产品有皮秒、飞秒紫外远心场镜、PC...

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（°ο°） 阿斯麦新型EUV遭大客户婉拒?台积电(TSM.US)表示这款光刻机太贵阿斯麦最新型的先进芯片制造光刻机器的价格令人望而却步。台积电高级副总裁Kevin Zhang周二在阿姆斯特丹的一个技术研讨会上表示:“这台EUV光刻机成本非常高。”他指的是阿斯麦最新推出的“high-NA”级别极紫外(EUV)光刻机。我喜欢high-NA EUV的性能,但我确实不喜欢它的...

Intel 14A工艺至关重要!2025年之后稳定领先这几年,Intel以空前的力度推进先进制程工艺,希望以最快的速度反超台积电,重夺领先地位,现在又重申了这一路线,尤其是意欲通过未来的14A 1.4nm级工艺,在未来巩固自己的领先地位。目前,Intel正在按计划实现其“四年五个制程节点”的目标,Intel 7工艺、采用EUV极紫外光刻技术的Inte...