极紫外光刻机工作视频

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˙▽˙ 英特尔展示 ASML 首台 High-NA EUV 光刻机交付过程英特尔在视频中记录了第一台光刻扫描仪 ASML Twinscan EXE:5000 的交付过程,从视频来看相关组件是通过空运从荷兰运到美国的,因此相比海运可以进一步缩短交货时间。ASML 于今年 2 月展示了 High-NA 极紫外 (EUV) 光刻机,价值 3.5 亿欧元(IT之家备注:当前约 27.2 亿元人民币),重...

三星申请极紫外光刻装置专利,能有效操作极紫外光刻装置金融界2023年12月5日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社申请一项名为“极紫外光刻装置和操作极紫外光刻装置的方法“,公开号CN117170189A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,提供了一种极紫外(EUV)光刻装置和操作EUV光刻装置的方法。所述操作极紫外(EUV)光...

第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel 4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel 4工艺首发用于代号Meteor Lake的酷睿Ultra处理器,将在12月14日正式发布,面向主流和轻薄笔记本。关...

⊙ω⊙ 阿斯麦确认向英特尔交付首台高数值孔径极紫外光刻系统荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦12月21日在社交媒体平台X发文确认,向英特尔交付首台高数值孔径极紫外光刻系统。每台设备的造价超3亿美元,可满足一线芯片制造商的需求,未来十年内能够制造更小、更好的芯片。本文源自金融界AI电报

台积电申请EUV光刻掩模薄膜专利,提高极紫外光掩模的制造效率金融界2023年12月6日消息,据国家知识产权局公告,台湾积体电路制造股份有限公司申请一项名为“用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法“,公开号CN117170179A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示,本公开涉及用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法。在一种制造用于极紫外(EU...

英特尔开始采用极紫外光刻技术大规模量产Intel 4制程节点作者:E科讯 近日,英特尔宣布已开始采用极紫外光刻(EUV)技术大规模量产(HVM)Intel 4制程节点。Intel 4大规模量产的如期实现,再次证明了英特尔正以强大的执行力推进“四年五个制程节点”计划,并将其应用于新一代的领先产品,满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求。作为英...

?△? ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单IT之家 2 月 13 日消息,荷兰半导体制造设备巨头 ASML 前天刚刚展示了其下一代高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机,还透露其 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价格约为 3.5 亿欧元(IT之家备注:当前约 27.16 亿元人民币)。相比之下,现有的 EUV 光刻机价格约为 1.7 亿欧元(当前约...

ASML 展示价值 3.8 亿美元的 High-NA EUV 光刻机,重达15万公斤IT之家 2 月 11 日消息,全球芯片制造巨头 ASML 公司近日展示了其最新款芯片制造设备 ——High-NA 极紫外 (EUV) 光刻机。这台价值 3.5 亿欧... 这对于人工智能工作负载至关重要。ASML 首席执行官 Peter Wennink 上个月在接受彭博社采访时表示:“人工智能需要大量计算能力和数据存...

ASML展示价值3.5亿欧元的High-NA EUV光刻机,重达15万公斤全球芯片制造巨头 ASML 公司近日展示了其最新款芯片制造设备 ——High-NA 极紫外 (EUV) 光刻机。这台价值 3.5 亿欧元(IT之家备注:当前约... 这对于人工智能工作负载至关重要。ASML 首席执行官 Peter Wennink 上个月在接受彭博社采访时表示:“人工智能需要大量计算能力和数据存...

能造EUV光刻机的欧洲:第一次有了自己的EUV生产线!EUV极紫外光刻机虽然出自欧洲的荷兰,但是欧洲一直没有自己的EUV生产线,直到现在。当地时间9月29日,位于爱尔兰莱克斯利普(Lexilip)附近的Intel Fab 34晶圆厂,正式开始使用EVU光刻工艺大规模量产生产Intel 4工艺的Meteor Lake处理器,也就是酷睿Ultra。Intel CEO帕特·基辛格、技...