p n是什么线_p n是什么线
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1、电线pn是什么线
●0● 英迪迈取得高效节能型P+N沟道驱动电路专利,实现高效节能金融界2024年3月20日消息,据国家知识产权局公告,英迪迈智能驱动技术无锡股份有限公司取得一项名为“一种高效节能型P+N沟道驱动电路“,授权公告号CN107959491B,申请日期为2017年12月。专利摘要显示,本发明公开一种高效节能型P+N沟道驱动电路,包括上桥电路和下桥电路;...
2、pn是什么线性空间
3、pn是什么线
特色花园式场段、P+R停车场……地铁6号线带动周边区域品质升级!P+R停车场4处,提供机动车位共334个。 同时,为了充分激发地铁出入口的城市承载功能,扮靓城市的容貌,6号线结合居民实际需求和地铁占地情况,在灵山湾站、北门外站、九顶山站、抓马山站周边打造了4处口袋公园。坚持以人为本,融合公园城市建设以及儿童友好与适老化设计理念,打...
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缓解拥堵降低出行成本 南京首个“P+R”停车场项目启用人民网南京6月12日电 (记者马晓波)12日,记者从南京市发改委获悉,为鼓励市民选择公共交通工具出行,减轻道路交通压力,马群综合换乘中心P+R停车场正式启用,这是南京首个P+R(换乘停车)停车场项目。P+R,即Park and Ride,意思是“停车换乘公共交通”。通过P+R换乘,市民可以采取...
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扬杰科技申请一种多导电沟道的平面栅 MOSFET 及制备方法专利,降低...在器件的的 P 体区和 P+沟道区之间形成一个薄的 N+层,关态状态下 G 极电极不加电压,该 N+层在 P 体区和 P+沟道区的夹持下被完全耗尽,不导电,开态状态下 G 极电极加正电压,栅氧一侧 P+沟道区形成反型层导电沟道,同时由于 G 极电极加正电压,P 体区和 P+沟道区夹持的 N+层由完全...
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一道新能申请一项 IBC 电池及其制备方法专利,解决现有 IBC 电池金属...方法包括:在硅片背面形成相互间隔的 P+发射极和 N+发射极后,在 P+发射极和 N+发射极表面形成介质层;在所述介质层上方放置转印衬底,所述转印衬底中包括金属浆料;将所述转印衬底中的金属通过激光转印至所述介质层中,以形成与所述 P+发射极接触的正电极种子层、以及与所述 N+...
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天合光能申请太阳能电池及其制备方法专利,降低PN复合从而进一步...隧穿氧化连接层设置在n+掺杂连接层靠近p+掺杂层的一侧,正面电极与n+掺杂层连接。n+掺杂连接层极易与正面电极形成良好的接触,从而使得两者之间保持较小的接触电阻,隧穿氧化连接层的隧穿能力能够降低p+掺杂层与n+掺杂连接层之间的PN复合,从而在正面电极具有良好接触的基础...
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格力电器申请UMOSFET专利,优化器件的反向恢复性能方法包括:在预处理后的衬底原料的上表面进行离子注入处理得到嵌入衬底原料的P型基区注入区、第一P+注入区和N+注入区;在N型外延层的上表面进行刻蚀处理形成碳化硅沟槽;对碳化硅沟槽进行多晶硅沉积,得到填充碳化硅沟槽的多晶硅栅电极;在第一P+注入区的上表面、N+注入区的...
上海贝岭申请内嵌异质结二极管的MOSFET及其制造方法专利,降低了...N型衬底、N+缓冲层、多层N‑外延层、P型体区、JFET区、P+接触区、N+源区、栅氧化层、N型多晶硅栅极、二氧化硅层间介质、P型多晶硅和金属化源极;JFET区位于两个P型体区的中间;P型多晶硅设于两个N型多晶硅栅极的中间位置,位于JFET区的上方,P型多晶硅与JFET区形成异...
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